陽極氧化鋁打黑的機理是通過聚焦后高能量密度的激光，在很短的時間內將膜厚為5-20um的陽極氧化鋁層進一步氧化并改變表面材料的機理，如圖1所示為不同厚度以及表面不同處理工藝的陽極氧化鋁表面。

　　　圖1  不同厚度和不同表面處理工藝的陽極氧化鋁表面　
一、影響陽極鋁打黑的因素和參數設置

 　　影響陽極氧化鋁打黑的因素有很多，歸納總結主要因素如下圖2。

　　圖2  影響陽極氧化鋁表面打黑的因素

1、材料因素：

　　主要包括陽極氧化鋁其氧化層的膜厚，以及表面處理工藝，一般來講，膜厚在5-20um， 膜的厚度直接決定打黑的效果和效率，一般膜厚在10-20um較容易打黑，膜厚小于8um時，氧化膜太薄，容易打破，出現白點的現象，需要提高脈沖頻率和提高填充密度（見下表）。另外陽極氧化鋁表面處理工藝將直接影響打黑效果，噴砂以及表面拉絲是常見的工藝，噴砂的粗細度對于打標出來的效果會產生不同的影響，噴砂顆粒越細，打黑效果越好。建議陽極鋁的膜厚為10-15μm，這樣總體的黑度效果會更佳。

     功率設置同脈沖頻率的關系如圖3， 當脈沖頻率提高時，功率也要相應的提高，一般在500KHz時，功率設置在30-35%，當頻率上升到800-900KHz時，功率要到70%左右。 

　　圖3  頻率和功率設置的關系： 頻率越高，脈沖寬度越短，需要的功率也越高

 ２、打標工藝因素：

 打黑工藝主要包括場鏡的焦距，光斑的大小，填充方式，正焦還是離焦等等。

 1） 填充密度與振鏡線速度的設置關系：

       填充密度和振鏡速度在打黑過程中有一定的連帶關系，一般來說，填充密度較密，振鏡的線速度可以較高，相反，如果填充密度較疏，振鏡的線速度就要降下來，以求達到相同的打標黑度，比如，填充密度為0.001mm， 振鏡速度為1000mm/s時的打黑黑度與填充密度為0.0002mm， 振鏡線速度5000mm/s 時打標的黑度基本相同（還需要適當調整功率），客戶可以參考下面圖表（圖4）調整參數以求得到最佳效果。

　　圖4  填充密度與振鏡線速度的設置關系，不同的參數可以得到相同的黑度

 2）焦平面對打黑的影響

       (lwmlaser)打黑時可以是正焦打黑，也可以是離焦打黑，但我們建議客戶采用正焦打黑方式，因為離焦在對于打圖案面積較大，或被打材料一致性不高時，容易出現不均勻的現象（其他類型的激光器也有此現象），這是因為在離焦時（無論是正離焦還是負離焦），激光的能量密度在工作范圍的中心區域同邊緣區域有很大的差異，從而造成打黑不均勻的現象。

3）場鏡焦距對打黑的影響

       一般來說，不同焦距的場鏡的選擇取決于聚焦后的光斑大小以及工作范圍，160mm的場鏡較適合陽極鋁打黑，如果選用254mm或更大的場鏡，需要提高激光功率（得到相同的能量密度）或降低打標速度，因此160mm的場鏡可以得到較高的打黑效率。

4）填充方式對打黑的影響

       填充方式將直接決定打黑的質量和效率，一般情況下選用蛇形填充可以大大提高打黑效率，單向填充可以提高打黑的質量。其他的填充方式也各有其特點，客戶可以根據不同的要求測試選擇最適合的方式。

3、設備和環境對陽極鋁打黑的影響

       陽極鋁激光打黑同其他激光打標有很大的不同，由于激光能量的微小變化在打黑上都有十分明顯的表現，因此，對設備信號穩定性以及環境震動和干擾都有很高的要求.

 1）信號線干擾

       激光設備中一般有電源線和信號線兩種，信號線包括振鏡信號線和激光控制信號線，電源線包括振鏡電源線（15V）和激光器電源線（24V）。 在機箱內布線時，一定要將電源線同數據線分開（空間上分開），避免混在一起，如有條件，將數據線和電源線分別放在相應的屏蔽槽內，避免電源線對數據線產生干擾。

2）數據線需要有屏蔽層

      設備的所有數據線（包括USB）需要有屏蔽層，而且屏蔽層一端要接地（不要兩端同時接地）。屏蔽層將有效屏蔽外來信號干擾。
3）環境和震動

       激光打標機的電源最好不要同其他大電流設備共用一個電源插槽，因為其他設備的開啟或斷開可能對激光打標機產生影響，另外，避免附近環境中有振動源。

4）地線

        打標設備的所有電源的地線（比如振鏡電源線的地線和激光電源線的地線）要同220V地線相連，一定要避免多點接地現象。

二、陽極鋁打黑常見問題以及解決方案：

　　氧化鋁打黑 MOPA激光打標機官網地址：http://www.lwmlaser.com/1890.html

      如有不明白可以聯系劉經理：18706195650（微信同號）